制取合金及單金屬粉末的氣霧化、水霧化噴嘴技術取得重大突破

    蘭州理工大學合金粉末廠張富邦、胡春蓮經過多年潛心研制出一套具有自主知識產權的制取合金及單金屬粉末的氣霧化、水霧化噴嘴。在關鍵性的技術方面取得突破性進展。目前，該氣霧化、水霧化噴嘴已申報國家專利。
    水霧化噴嘴是用水霧化法制取單金屬及合金粉末的關鍵設備。國內從六十年代開始眾多廠家分別研制了不同角度、不同噴射法的水霧化噴嘴，但在應用過程中因出粉率低，使用性不穩定等諸多因素一直未達到國外水霧化噴嘴的各項指標。2000年蘭州理工大學合金粉末廠張富邦、胡春蓮針對困擾本企業的制粉噴嘴問題，經過反復試驗，終于研制成功了一套適用于單金屬及合金粉末水霧化生產的ZH-SW-01型水霧化噴嘴。該噴嘴在使用于本企業的合金粉末產生之外并配備于金川公司“863” 單金屬粉體工程之中，以出粉率達85%以上得到了評審專家的好評。在合金粉末霧化過程中，該噴嘴以球形度好、成品率高得到了國內同行的青睞。
    ZH-QW-01型氣霧化噴嘴是在真空狀態下用惰性氣體霧化單金屬及合金粉末的關鍵性技術。國內目前沒有一套能夠配套真空霧化系統的自行研制成功的氣霧化噴嘴。2003年蘭州理工大學合金粉末廠在成功研制真空霧化系統之后因沒有一套能于之相配套的氣霧化噴嘴而使該真空霧化系統一度廢棄。后來經過張富邦、胡春蓮二同志一年多的研制，于2004年成功開發出一套適用于真空狀態下霧化單金屬及合金粉末的ZH-QW-01型氣霧化噴嘴。目前該霧化噴嘴成功的運行在本企業的一套9米高的真空霧化系統之中，能夠生產Co、Ni、W、Mo等單金屬及無硼鈷基合金粉末，-80+280目出粉率達45%，-200目出粉率達50%以上。 
  
 

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