CVD-1200系統由開啟式管式爐、高真空分子泵系統、壓強控制儀及多通道高精度數字質量流量控制系統組成。可實現真空達0.001Pa混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗, 適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結等。
主要功能和特點：
1、高真空系統由雙級旋片真空泵和分子泵組成，*高真空可達0.0001Pa；
2、可配合壓強控制儀控制氣體壓力，實現負壓的精準控制；
3、數字質量流量控制系統是由多路質量流量計，流量顯示儀等組成，實現氣體的流量的精密測量和控制；
4、每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統的安全性和連續均勻性；
5、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；
6、管路采用世界*Swagelok卡套連接，不漏氣；
7、超溫、過壓時，自動切斷加熱電源及流量計進氣，使用安全可靠。
主要技術參數：
YG-1206管式實驗電爐 控溫方式 采用人工智能調節技術，具有PID調節、自整定功能，并可編制30段升降溫程序。
加熱元件 0Cr27Al7Mo2
工作電源 AC220V 50Hz/60Hz
額定功率 4kw
爐管材質 高純石英管
爐管尺寸 Φ60/Φ80/Φ100*1000mm
工作溫度 ≤1150℃
*高溫度 1200℃
恒溫精度 ±1℃
恒溫區 200mm
升溫速度 ≤10℃/min
密封方式 不銹鋼快速法蘭擠壓密封
ZK-F
分子泵真空系統 真空范圍 0.1-0.001Pa
極限真空 4.0*10^-4Pa
產品配置 雙級旋片真空泵+分子泵
測量方式 復合真空計
真空規管 電阻規+電離規
冷卻方式 風冷
工作電源 AC220V 50/60HZ
抽速 110L/S
ZDFC-Ⅲ
壓強控制系統 測量范圍 5～1*10^-5 Pa
穩壓(真空)范圍 1～5*10^-3Pa
壓力(真空)穩定精度） ±3%
控制范圍 2.5*10^3～1*10^-4 Pa
控制精度 ± 1%
HQZ-Ⅲ
混氣系統 控制方式 D07-7K質量流量計,D08流量顯示儀
流量規格 0－500SCCM /0－1SLM,（可根據客戶需要配置）
線性 ±1%F.S
準確度 ±1%F.S
重復精度 ±0.2%F.S.
響應時間 ≤2sec
耐壓 3MPa
氣路通道 3通道（根據客戶需求）
針閥 316不銹鋼
管道 Φ6mm不銹鋼管
接口 SwagelokΦ6mm