石墨碳管爐（Graphite Tube Furnace）是一種以石墨材料為核心加熱元件的高溫爐，廣泛應用于需要高溫、惰性氣氛或真空環境的材料處理領域。
石墨碳管爐的主要應用領域
1. 材料科學研究
- 高溫燒結：用于陶瓷、金屬粉末、碳化硅（SiC）、氮化硅（Si₃N₄）等材料的無壓燒結。
- 碳材料處理：石墨烯、碳納米管（CNT）、碳纖維的高溫石墨化（2000~3000℃）。
- 半導體材料制備：碳化硅單晶生長、高純硅的提純。
2. 冶金與粉末冶金
- 難熔金屬燒結：鎢（W）、鉬（Mo）、鉭（Ta）等金屬的粉末冶金燒結。
- 硬質合金：WC-Co（碳化鎢-鈷）刀具材料的燒結。
3. 新能源與電池材料
- 鋰電負極材料：石墨、硅碳（Si-C）負極的高溫碳化處理。
- 光伏行業：多晶硅、單晶硅的熔煉與提純。
4. 化學氣相沉積（CVD）
- 金剛石薄膜：在高溫下通過CVD法沉積金剛石涂層。
- 碳化硅外延：用于半導體行業的SiC外延生長。
5. 實驗室與小規模生產
- 高校與科研機構：用于新材料的高溫合成、熱處理實驗。
- 小批量生產：適用于高附加值材料的試制。

石墨碳管爐的核心技術特點
1. 高溫性能
- 溫度范圍：通常可達 2000~3000℃（取決于石墨管質量），適用于超高溫實驗。
- 升溫速率：快速升溫（10~30℃/min），可編程控溫曲線。
2. 加熱系統
- 石墨加熱元件：
- 采用高純等靜壓石墨管，耐高溫、抗氧化（需在真空或惰性氣氛下使用）。
- 發熱均勻，熱效率高，適用于高精度實驗。
- 多溫區設計（可選）：提高溫度均勻性（±5℃以內）。
3. 氣氛控制
- 真空系統：極限真空可達 10⁻³~10⁻⁵ Pa，防止材料氧化。
- 惰性氣氛：可通 Ar、N₂、He 等保護氣體，適用于活性材料處理。
- 還原性氣氛：如 H₂，用于金屬氧化物還原。
4. 爐體結構
- 雙層水冷爐殼：確保設備安全運行，防止外部過熱。
- 高純石墨隔熱層：減少熱損失，提高能效。
- 觀察窗（可選）：便于實驗過程監控。
5. 智能控制系統
- PLC/觸摸屏控制：可存儲多組工藝曲線，支持自動升溫、保溫、降溫。
- 數據記錄：實時記錄溫度、氣壓等參數，支持導出分析。
6. 安全保護
- 過溫保護：防止超溫損壞設備。
- 斷水/斷電保護：避免突發事故導致設備損壞。
-氣體流量監測：防止氣氛異常影響實驗結果。